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旋转粉末磁控溅射镀膜仪 旋转粉末磁控溅射镀膜仪是基于磁控溅射技术的**表面处理设备，通过动态旋转基片或靶材的设计，结合粉末靶材的溅射特性，实现复...
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桌面型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型铝合金腔体单靶磁... 桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜
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矩形腔室磁控溅射镀膜仪 矩形腔室磁控溅射镀膜仪是一种利用磁控溅射技术进行薄膜沉积的高精度设备
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D型腔体单靶直流磁控溅... 直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等
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离子源双靶磁控溅射镀膜... 离子源双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有两台直流电源，两台射频电源，可用于制备单层...
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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粉末磁控溅射镀膜仪 粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上
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桌面型磁控溅射镀膜仪下... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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高真空三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空双靶磁控溅... 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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桌面型单靶直流磁控溅射... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
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高真空4英寸三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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下置四靶磁控溅射镀膜仪 四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜
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卧式高真空三靶磁控溅射... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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小型台式单靶磁控溅射镀... 桌面型石英腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SE...
