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    产品详情
    • 产品名称:D型腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪

    • 产品型号:CY-MSH500X-I-DC-SS
    • 产品厂商:成越科仪
    • 产品文档:
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    简单介绍:
    直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等
    详情介绍:

    D型腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪,设备配有1台直流电源,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

    磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。

    本型号采用靶下置布局,样品台在上方,与靶面高度可通过程序**可调,并且可旋转加热,性能优异。

    D型腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪:

    产品名称

    D型腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪

    产品型号

    CY-MSH500X-I-DC-SS

    供电电压

    AC220V,50Hz

    整机功率

    6KW

    极限真空度

    9x10-4Pa

    样品台

    尺寸

    200mm

    高度

    上下70mm**可调

    加热温度

    RT-500

    转速

    1-20rpm

    磁控溅射头参数

    数量

    14”磁控溅射头

    冷却方式

    水冷,所需流速10L/min

    水冷机规格

    10L/min流速的循环水冷机

    真空腔体

    腔体尺寸

    φ500mm X550mm H

    腔体材料

    不锈钢

    观察窗口

    φ100mm

    开启方式

    前开门式

    气体流量控制器

    1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM  Ar;

    真空泵

    配有一套分子泵系统,抽速1200L/S

    膜厚仪

    石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 ?

    溅射电源

    直流电源1台,500W,适用于制备金属膜

    操作方式

    CYKY自研专业级控制系统

    整机尺寸

    1250mm X 1000mm X2000mm

    整机重量

    500kg

    豫公网安备 41019702002438号

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