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桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜。其核心特点包括：
铝合金真空腔体：轻量化设计，耐腐蚀性好，适合实验室或小规模生产环境。
单靶配置：支持单一靶材（如金属、合金或氧化物），结构简单，操作便捷。
磁控溅射技术：利用磁场约束等离子体，提高溅射效率，形成均匀、致密的薄膜。
桌面设计：体积小巧，适合科研院所、高校实验室等空间有限的场所。
应用领域：
该设备广泛用于材料科学、光学、电子等领域，具体包括：
光学薄膜：如增透膜、反射膜、滤光片等。
电子器件：半导体电极、导电薄膜（如ITO）、传感器涂层。
功能材料：耐磨涂层（如TiN）、防腐涂层、超硬薄膜（类金刚石）。
科研实验：新材料开发、薄膜性能测试、教学演示等。
磁控溅射镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-MSZ200-I-DC-AL |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ50mm |
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旋转 |
自转+公转角度倾斜2英寸 |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ180mm X 150mm |
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腔体材料 |
铝合金 |
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开启方式 |
上盖拆卸式 |
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真空系统 |
真空测量 |
复合真空计，量程:10-5~105Pa |
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抽气接口 |
KF25 |
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系统真空 |
1.0E-1Pa（机械泵） |
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供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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输出功率 |
直流电源500W |
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其他参数 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
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整机功率 |
2kW |
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重 量 |
30kg |
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整机尺寸 |
385X450X420mm |
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