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    产品详情
    • 产品名称:桌面型磁控溅射镀膜仪上置靶枪

    • 产品型号:CY-MSZ254-II-DCRF-SS
    • 产品厂商:成越科仪
    • 产品文档:
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    简单介绍:
    磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。
    详情介绍:
    磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。

    磁控溅射镀膜仪产品特点:

    ?    高效镀膜:采用磁控溅射技术,沉积速率高,薄膜均匀性好。
    ?    多功能应用:支持多种靶材和基材,适用于不同材料的薄膜沉积。
    ?    智能控制:配备先进的控制系统,实现精准的工艺参数控制。
    ?    ??榛杓疲悍奖阄ず蜕?,可根据需求定制各种功能???。

    ?    环境友好:低能耗设计,减少对环境的影响。

    磁控溅射镀膜仪技术参数:

    参数名称

    参数说明

    产品名称

    桌面型前开门双靶磁控溅射镀膜仪

    产品型号

    CY-MSZ254-II-DCRF-SS

    真空腔

    腔体材质

    304不锈钢焊接而成,表面做抛光处理

    取放模式

    前开门方式取放样品和靶材

    观察窗

    直径100mm真空窗口,配有磁力挡板,防止污染

    样品台

    样品尺寸

    直径≦100mm的平面样品均可

    旋转速度

    不旋转和旋转型(0-30RPM)可选

    加热温度

    RT-500;RT-800;RT-1000℃可选

    磁控靶

    靶枪类型

    普通永磁靶,可调角度

    靶材尺寸

    直径2英寸,厚度≦3mm,

    溅射功率

    300W

    溅射方式

    直流溅射

    工作真空

    0.3-3Pa

    电源

    直流电源 300W *2

    溅射气体

    高纯氩气,纯度99.99%

    真空测量

    复合真空计,电阻规+电离规,测量范围:105-10-5Pa

    真空获取

    前级泵

    抽速 1.1L/S

    分子泵

    抽速  600L/S

    膜厚测量

    通常配CYKY膜厚测量仪

    也可选配进口品牌,价格额外计算

    外形尺寸

    550mm*350mm*450mm

    包装尺寸

    770×720*730mm

    包装重量

    110 KG

    豫公网安备 41019702002438号

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