产品名称：双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点：

1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。

双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格：

项目		明细
产品型号		CY-MSH325- II-DCRF-SS
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		4KW
系统真空		≦5×10-4Pa
样品台	外形尺寸	φ140mm
	加热温度	≦500℃
	控温精度	±1℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	靶材尺寸	直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷却模式	循环水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔体	腔体尺寸	直径φ325mm，高度500mm
	腔体材质	SUU304不锈钢
	观察窗口	直径φ100mm
	开启方式	顶开式
气体控制		1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统		配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量		可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 ?
溅射电源		直流电源500W,射频电源500W
控制系统		CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸		600mm × 650mm × 1280mm
设备重量		350kg

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