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产品简介：CY-MSH300-III-DCDCRF-SS三靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
技术参数：
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项目 |
明细 |
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产品型号 |
CY-MSH300-III-DCDCRF-SS |
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供电电压 |
AC220V，50Hz |
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整机功率 |
6KW |
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系统真空 |
≦5×10-4Pa |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加热温度 |
≦500℃ |
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控温精度 |
±1℃ |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
靶材尺寸 |
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷却模式 |
循环水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
直径φ300mm，高度500mm |
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腔体材质 |
SUU304不锈钢 |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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开启方式 |
顶开式 |
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气体控制 |
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM |
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真空系统 |
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S |
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膜厚测量 |
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 ? |
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溅射电源 |
直流电源500W*2,射频电源500W |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制系统 |
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设备尺寸 |
600mm × 650mm × 1280mm |
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设备重量 |
350kg |
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