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通用真空腔体设计用于在低压至高真空 - 5·10-7 mm 下进行物理实验。该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种镀膜。 此外，在安装适当的设备时，真空柱还可用于进行固体物理领域的研究。
抽气和真空室升降过程有手动和自动两种控制方式。 真空柱的压力和状态显示在液晶显示屏上。
真空室被制成帽的形式。 腔室材料为不锈钢，箱体上焊接有矩形冷却通道。 腔室法兰有许多支管，用于连接各种输入：旋转、电气、低温。 真空柱配备有自动室提升机构。
腔体的技术特性。
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真空系统 |
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真空室内径 |
不小于250mm |
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真空室高度 |
不小于400mm |
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摄像头类型 |
圆筒钟型 |
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腔体材质 |
不锈钢，12X18H10T |
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腔体内表面加工 |
研磨、抛光 |
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前级泵抽速 |
不小于5m3/h |
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前级泵类型 |
干式螺旋泵 |
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高真空泵类型 |
涡轮分子泵组 |
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高真空泵抽速 |
不小于300l/s |
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冷却系统 |
线圈，入口/出口配件：1/4' |
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工作真空度 |
1x10-6毫米汞柱 |
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极限真空 |
5х10-7毫米汞柱 |
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达到工作真空的时间 |
不超过60分钟 |
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真空计类型 |
组合式宽范围型 |
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压力测量范围 |
760 mm Hg |
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旁路泵送管线 |
有 |
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高真空阀 |
气动，常闭 |
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连接法兰 |
KF16 – 2个. KF25 – 6个. |
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控制类型 |
手动/自动 |
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真空系统控制方法 |
电动气动 |
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真空系统压力和状态指示 |
控制面板上的液晶显示屏 |
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外形尺寸 |
宽x深x高（1000x1200x1800(2400)mm |
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重量 |
不超250KG |
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电源电压 |
220V |
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电源相数 |
1 |
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进气压力 |
4-8 Bar |
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功耗 |
0.5KW |
