单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

单靶为一支强磁靶，所配电源为 1台1500W 直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备。

镀膜仪配有一路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达 1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

应用范围:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

规格参数：

单靶直流磁控溅射镀膜仪
样品台	外形尺寸	Φ360mm
	可调转速	1-20rpm可调
磁控靶枪	靶材平面	圆形平面靶
	溅射真空	0.1Pa～3Pa
	靶材直径	100～101.6mm
	靶材厚度	3mm
	绝缘电压	>2000V
	电缆规格	SL-16
	靶头温度	≦65℃
真空腔体	内壁处理	电解抛光
	腔体尺寸	Φ500mm × 500mm
	腔体材料	304不锈钢
	观察窗口	石英窗口，直径φ100mm
	开启方式	侧面开启
气体控制	流量控制	质量流量计，量程0～100SCCM
	气体种类	可选氩气、氮气、氧气等多种气体
	调节阀类型	电磁调节阀
	调节阀静止状态	常闭
	测量线性度	±1.5%F.S
	测量重复精度	±0.2%F.S
	测量响应时间	≤8秒（T95）
	工作压差范围	0.3MPa
	阀体耐压	3MPa
	工作环境温度	（5～45）℃
	阀体材料	不锈钢316L
	阀体漏率	1×10-8Pa.m3/s
	管道接头	1/4″卡套接头
	输入输出信号	0～5V
	供电电源	±15V（±5%）（＋15V  50mA,  －15V  200mA）
	外形尺寸mm	130（宽）×102（高）×28（厚）
	通讯接口	RS485 MODBUS协议
直流电源	电源功率	1500W
膜厚测量	电源要求	DC:5V（±10%） *大电流 400mA
	分辨率	±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /测量(铝)
	测量精度	±0.5%厚度+1计数
	测量周期	100mS～1S/次（可设置）
	测量范围	500,000 ? (铝)
	晶体频率	6MHz
	通讯接口	RS-232/485串行接口
	显示位数	8位LED显示
分子泵	分子泵抽速	1200L/S
	额定转速	24000rpm
	振动值	≦0.1um
	启动时间	5min
	?；奔?span>	7min
	冷却方式	水冷+风冷
	冷却水温度	≦37℃
	冷却水流速	1L/min
	安装方向	垂直±5°
	抽气接口	150CF
	排气接口	KF40
前级泵	抽气速率	VRD-16
	极限真空	1Pa
	供电电源	AC:220V/50Hz
	电机功率	400W
	噪音	≦56db
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF25
阀门	闸板阀	真空腔体与分子泵间装有闸板阀
	切断阀	分子泵与前级之间装有切断阀
	旁抽阀	真空腔体与前级之间装有旁抽阀
	放气阀	真空腔体上装有电磁放气阀
整机极限真空		≦5×10-4Pa
测试靶材		直径4英寸厚度3mm的镍靶材1块