产品名称：双靶磁控及蒸发复合镀膜仪

CY-MS500S-2TA1S双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。

设备主要由不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。

设计特色

1. 设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。

2. 真空室采用下置靶设计，样品台具有加热和旋转但是功能，可以使镀膜效果更加均匀。

3. 设备真空获得系统采用两级真空泵组，前级泵为大抽速机械泵，有效缩从常压至低真空的时间，主泵为涡轮分子泵，抽速高，真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。

4. 真空腔体采用304不锈钢制成，配有观察窗口及挡板。造型美观做工精细，真空性能优异。

5. 主要密封法兰采用 CF系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效保证镀膜质量。

技术参数：

磁控溅射头	数量	2英寸 x2
	冷却方式	水冷
蒸发系统	蒸发源	钨丝篮
	*高温度	1800℃
真空腔体	腔体尺寸	φ325mm X 600mm
	观察窗口	φ100mm
	腔体材料	304不锈钢
	开启方式	前开门式
真空系统	机械泵	旋片泵
	抽气接口	KF16
	抽气速率	1.1L/s
	分子泵	涡轮分子泵
	抽气接口	CF150
	抽气速率	600L/s
	排气接口	KF40
	真空测量	电阻规+电离规
	极限真空	1.3x10-4Pa
	供电电源	AC;220V 50/60Hz
电源配置	直流电源数量	1台
	输出功率	≤1500W
	输出电压	≤600W
	响应时间	＜5ms
	射频电源数量	1台
	输出功率	≤1500W
	功率稳定度	≤5W
	射频功率	13.56MHz
	射频稳定度	±0.005%
膜厚监控系统	膜厚仪测量分辨率	±0.03Hz
	测量精度	±0.5%
	测量上限	50000
	测量速度	100~1000ms
水冷系统	水箱容积	9L
	流量	10L/min
供气系统	流量计类型	质量流量计
	量程	200sccm
	气体类型	Ar气
其他	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	4kw（主机+真空泵）
	整机尺寸	1000x950x1300mm
	整机重量	295kg

样式一：尺寸150mm，加热温度≤500℃ 控温精度±1℃， 旋转速度1-20r/min

样式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精准可调，旋转速度1~20rpm，加热温度 0~500℃