• <legend id="kqkyq"></legend>
  • <legend id="kqkyq"><input id="kqkyq"></input></legend>
  • <tr id="kqkyq"><input id="kqkyq"></input></tr>
  • <legend id="kqkyq"></legend>
    产品详情
    • 产品名称:等离子溅射蒸发二合一镀膜仪

    • 产品型号:
    • 产品厂商:成越科仪
    • 产品文档:
    你添加了1件商品 查看购物车
    简单介绍:
    CY-EVS180G-LV二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。 设备主要由石英真空室、等离子溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。 设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构,样品台与靶的距离灵活可调。 设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小,噪音小,无油污污染等优点。 真空腔体采用石英加工而成,呈现圆柱结构,外形美观,大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效镀膜质量。
    详情介绍:

    本产品为二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。
    设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构,样品台与靶的距离灵活可调。
    设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小,噪音小,无油污污染等优点。
    真空腔体采用石英加工而成,呈现圆柱结构,外形美观,大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效镀膜质量。
    技术参数:

    样品台

    φ80mm

    至蒸发源间距

    20mm~50mm可调

    φ80mm

    直流溅射头

    数量

    2” x1

    蒸发系统

     

    蒸发源

    钨丝篮

    *高温度

    1700℃

    热电偶

    S型热电偶

    真空腔体

     

    腔体尺寸

    φ180mm X 150mm

    观察窗口

    全向透明

    腔体材料

    高纯石英

    开启方式

    顶盖拆卸式

    真空系统

     

     

     

    机械泵

    GHD-031B

    抽气接口

    KF16

    真空测量

    电阻规

    排气接口

    KF16

    极限真空

    10E-1Pa

    供电电源

    AC;220V 50/60Hz

    抽气速率

    旋片泵:4L/S

    溅射电源配置

    数量

    直流电源 x1

    *大输出功率

    150w

     

    其他

     

    供电电压

    AC220V,50Hz

    整机尺寸

    500 X 350 X 400mm

    整机重量

    15kg

    整机功率

    1.5kw

    豫公网安备 41019702002438号

    欧美性黑人极品hd变态 <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>