- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
技术规格：
桌面型单靶磁控镀膜仪
产品型号
CY-MSZ180-I-DC-Q
样品台
尺寸
φ100mm
加热
*高500℃
转速
0-20可调
磁控溅射靶
数量
2” x1
真空腔体
腔体尺寸
φ180mm X
215mm
观察窗口
全向透明
腔体材料
高纯石英
开启方式
上盖拆卸式
真空系统
机械泵
旋片泵
分子泵
涡轮分子泵
真空测量
电阻规+电离规
抽气接口
KF16
抽气接口
KF40
排气接口
KF16
极限真空
1.0E-4Pa
供电电源
AC 220V 50/60Hz
抽气速率
机械泵1.1L/s
分子泵600L/s
电源配置
数量
直流电源 x1
*大输出功率
直流电源300W
其他
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
2kW
整机尺寸
550mm X 350mm
X400mm
