产品分类
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- 实验室镀膜耗材
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产品详情
简单介绍：
该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。
详情介绍：
设备技术参数
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使用条件 |
环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar |
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真空室尺寸 |
蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜) |
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电子枪 |
新型电子枪1套，6穴坩埚 |
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样品转盘 |
样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃ |
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系统真空度 |
极限真空 |
经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa |
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抽气速率 |
从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa |
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系统漏率 |
整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa |
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抽真空系统 |
FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气 |
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镀膜监测 |
采用SQM160膜厚仪进行监测 |
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镀膜厚度 |
镀膜厚度的不均匀度≤6% |
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