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    产品详情
    • 产品名称:小型粉末PVD包覆系统

    • 产品型号:CY-16PW
    • 产品厂商:成越科仪
    • 产品文档:
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    简单介绍:
    小型粉末PVD包覆系统是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。小型粉末PVD包覆系统粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。
    详情介绍:

    小型粉末PVD包覆系统技术参数:

    产品型号

    小型粉末PVD包覆系统CY-16PW

    产品特点

    1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆

    2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料

    技术参数

    1、输入电压:220 VAC 50/60Hz
    2、电源输出:1600 VDC 250 W
    3、ZUI大电流:150 mA .
    4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头
    5、振动样品台:
    样品台振动频率可调节:6-33Hz
    样品台直径为50mm
    建议样品量: < 500 mg
    建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um
    石英腔体尺寸:165 mm OD.×150 mm ID×250 mm H
    6、真空度:
    ①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
    ② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶*大真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)
    7、CE认证

    产品规格

    外形尺寸:长460×宽330×高810mm  净重:20Kg

    注意事项

    警告:
    1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套
    2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理
    注意:粉末样品必须干燥和分散

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