产品名称：双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)

CY-MSV325- II-DCDC-SS双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

技术参数：

项目		明细
产品型号		CY-MSV325- II-DCDC-SS
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		4KW
系统真空		≦5×10-4Pa
样品台	外形尺寸	φ185mm
	加热温度	≦500℃
	控温精度	±1℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	靶材尺寸	直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷却模式	循环水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔体	腔体尺寸	直径φ300mm，高度300mm
	腔体材质	SUU304不锈钢
	观察窗口	直径φ100mm
	开启方式	顶开式
气体控制		1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统		配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量		可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 ?
溅射电源		直流电源500W*2
控制系统		CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸		600mm × 650mm × 1280mm
设备重量		350kg