产品名称：小型单靶磁控溅射镀膜仪

小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为150W直流电源，可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入?；ば云?，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。

本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。

小型单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。 

小型单靶磁控溅射镀膜仪技术参数：

产品名称	桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪
产品型号	CY-MSZ254-I-DC-SS
样品台	外形尺寸	φ100mm
	加热温度	≦500℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体	腔体尺寸	φ254mm X 300mm
	观察窗口	全向透明
	腔体材料	304不锈钢
	开启方式	上盖拆卸式
真空系统	前级泵	低噪音双极旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速涡轮分子泵
	真空测量	复合真空计，量程:10-5~105Pa
	抽气接口	KF16
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF16
	系统真空	1.0×10-4Pa
	供电电源	AC 220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s
电源配置	电源数量	直流电源一套
	输出功率	直流电源300W
其他参数	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	2kW
	整机尺寸	550mm X 350mm X450mm