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本设备为三源高真空蒸发镀膜仪，设备采用前开门式真空腔体设计，腔体空间大，可拓展性强，能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台，可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。样品台可旋转、加热，所有操作均通过触控屏集成控制。设备的真空泵组为两级式真空系统，由双极旋片真空泵和涡轮分子泵组成，可为真空镀膜试验提供清洁无油的高真空的环境；真空系统内含有完善的气动阀系统，用户可通过触控屏进行一键式操作实现抽取真空、不?；》叛?、完全?；炔僮?。
详情介绍：
本设备的蒸发源共三组，采取钨舟蒸发源，水冷式铜电极，可*大支持260A的大电流，加热温度*高可达1800℃，可实现多种难熔金属的蒸镀，三组独立热蒸发源，不会导致镀材互相污染。本设备采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离，有力的保证了用户的**。电控部分采用触控屏和按钮面板相结合的设计，真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作，通电蒸发、膜厚控制等通过面板独立操作，在尽可能方便用户的同时规避了误操作的可能。该设备设计完善性能优越，是实验室高精度蒸发镀膜试验的必备之选。
三源高真空蒸发镀膜仪应用领域：金属和介电膜 ，薄膜传感器的制造 ，光学元件 ，纳米与微电子 ，太阳能电池等。
技术参数：
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产品名称 |
三源高真空蒸发镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-EVH500-III-HHH-SS |
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样品台 |
尺寸 |
*大支持φ150mm样品 |
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功能 |
可旋转，*高加热500℃ |
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蒸发源 |
数量 |
钨舟x3 |
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电源 |
每个蒸发源配一组独立电源；三个蒸发源共三组独立电源 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ300x400mm |
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观察窗口 |
前置φ100mm |
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腔体材料 |
304不锈钢 |
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开启方式 |
前开门式 |
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膜厚控制（选配） |
晶振式膜厚测量仪，可选多通道膜厚控制仪 |
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真空系统 |
前级泵 |
双极旋片泵 |
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抽气接口 |
KF16 |
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次级泵 |
涡轮分子泵 |
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抽气接口 |
CF160 |
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真空测量 |
电阻+电离 复合真空规 |
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排气速率 |
机械泵1.1L/s 分子泵 600L/s |
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极限真空 |
1.0E-5Pa |
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供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
旋片泵：1.1L/S |
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控制系统 |
PLC自动控制 操作界面：触控屏+操作面板 （触摸屏可控制沉积过程和快速数据输入；用户友好 PLC 软件系统，可以通过网络更新） |
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其他 |
供电电压 |
AC380V,50Hz |
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整机尺寸 |
1000mm X 800mm X 1500mm |
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整机功率 |
5kW |
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整机重量 |
350kg |
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