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本设备的蒸发源共两组，采取钨舟蒸发源，水冷式铜电极，可*大支持300A的大电流，加热温度*高可达1800℃，可实现多种难熔金属的蒸镀。本设备采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离，有力的保证了用户的**。电控部分采用触控屏和按钮面板相结合的设计，真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作，通电蒸发、膜厚控制等通过面板独立操作，在尽可能方便用户的同时规避了误操作的可能。该设备设计完善性能优越，是实验室高精度蒸发镀膜试验的必备之选。
技术参数：
多源高真空蒸发镀膜仪
型号
CY-EVH325-Ⅱ-HH-SS
样品台
尺寸
*大支持φ150mm样品
高度
上下70mm可调
蒸发源
数量
钨舟x2
真空腔体
腔体尺寸
φ325x600mm
观察窗口
前置φ100mm
腔体材料
304不锈钢
开启方式
前开门式
膜厚控制
晶振式膜厚测量仪，可选多通道膜厚控制仪
真空系统
前级泵
双极旋片泵
抽气接口
KF16
次级泵
涡轮分子泵
抽气接口
CF160
真空测量
电阻+电离 复合真空规
排气速率
机械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
极限真空
1.0E-5Pa
供电电源
AC 220V 50/60Hz
抽气速率
旋片泵：1.1L/S
控制系统
PLC自动控制 操作界面：触控屏+操作面板
其他
供电电压
AC380V,50Hz
整机尺寸
1000mm X900mm X 1500mm
整机重量
350kg
整机功率
5kW
