- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
匀胶机主要由基座、旋转盘、传动装置、抽气装置、注解系统和数显温控器等多个部分组成。其制备过程可以分为以下步骤：将溶液放在旋转盘上；启动旋转盘进行离心作用；控制旋转速度和时间使其形成想要厚度的薄膜；*后利用抽气装置去除涂层表面的余胶。
使用时，匀胶机需要准备一定数量的所需材料的溶液或混合物，通常使用有机溶剂或水作为稀释剂，并加入表面活性剂以改善黏度和表面张力?；旌衔锏呐浞接Ω酶菟璞∧さ幕灾屎秃穸壤慈范?。
此外，不锈钢腔体匀胶机采用先进的精密电机，其转速能达到很高，例如10000转/分，这有效地保障了成膜的均匀性。同时，它可能采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，从而大大简化了使用过程并降低了学习成本。
请注意，不同的不锈钢腔体匀胶机可能有不同的特点和功能，因此在具体选择和使用时，建议参考相关产品的说明书或咨询专业人士。
不锈钢腔体匀胶机的主要用途是将液态或胶体材料均匀涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上，形成薄膜。这种设备广泛应用于各种领域，包括但不限于光刻胶旋涂、生物培养基制作以及溶胶凝胶法制作高分子薄膜等。
具体来说，不锈钢腔体匀胶机通过高速旋转基片，利用离心力使胶液均匀地分布在基片表面，形成一层均匀、致密的薄膜。这种薄膜的厚度和均匀性可以通过控制旋转速度和时间来调节，以满足不同应用的需求。
在光刻胶旋涂中，不锈钢腔体匀胶机用于在硅片或其他基片上制备光刻胶薄膜，这是制造半导体器件和集成电路的关键步骤。在生物培养基制作中，匀胶机则用于制备均匀的生物培养基薄膜，用于细胞培养和组织工程等研究。此外，在溶胶凝胶法制作高分子薄膜时，不锈钢腔体匀胶机同样发挥着重要作用。
总的来说，不锈钢腔体匀胶机在材料科学、半导体制造、生物学等多个领域中都有广泛的应用，为科研和生产提供了重要的技术支持。
技术参数：
|
供电电压 |
AC220V 50Hz |
|
转速 |
-3000~3000 rpm |
|
2000 rpm/S |
|
|
转速分辨率 |
1rpm |
|
转速精度 |
±1 rpm(50~3000 rpm) |
|
单步时间 |
3000s |
|
基片尺寸 |
基片尺寸规格：4/6/8 寸标准晶圆，固定 300mm 金属 frame，晶圆厚度：80-100um |
|
腔体材质 |
上等不锈钢，可拆卸组合式 CUP，方便清洗 |
|
自动摆臂 |
摆臂速度：1~30°/S；材质：铝合金；数量：1 |
|
管路 |
1.管路数量：4 2.自动摆臂：1 路 N2，1 路高压水，1 路胶；固定臂：1 路高压水 3.高压水压力范围：1~12Mpa（10-120bar） 4.水压大小可以通过通信协议设置 5.氮气流量大小可通过通信协议设置 |
|
滴胶方式 |
胶粘度：40~60cp； 供胶方式：气动胶泵（带液位检测） 补液方式：手动补液 . |
|
载物盘
|
数量：1 材质: 微孔盘 ，载物盘具有升降功能 尺寸：适合 4/6/8 寸标准晶圆+300mm 金属 frame 基片固定方式：真空吸附方式+夹持 真空检测：数字式压力传感器 |
|
控制系统 |
控制系统：采用 PLC 控制 ，?？榛?无需触摸屏。 程序：100 组，每组 100 步，单步*大 3000.0S，时间分辨率:0.1S 程序可保存、调用、修改、删除 设置加密权限:分别为设备操作员、技术员、管理员、 厂商 信号塔类型：红、黄、绿 3 色 与主设备机器人对接（**互锁） 程序：包括原点定位+顶升+两路高压控制+漏液报警+软件配合 |
|
**?；?/span> |
有防漏电断路?；ぷ爸? 底部装有漏液传感器，机台漏液会有报警提示 有可靠的接地装置及紧急停止和报警系统 真空不足报警，异常报警的情况下将严禁运行设备 |
|
是否支持定制 |
是的 |
