- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
主要功能及特点：
PECVD设备利用平板电容式辉光放电原理，将通入沉积室的工艺气体解离并产生等离子体，被解离的基团在等离子体中重新发生化学反应，由于等离子体存在，促进气体分子的分解、化合、激发和电离，促进反应活性基团的生成，从而降低沉积温度，在具有一定温度的基片上沉积形成薄膜?？筛莨ひ盏鹘诘壤胱犹宓拿芏群湍芰?，控制薄膜的生长速率和微结构。
产品参数：
|
产品名称 |
桌面式4英寸平板等离子体增强化学气相沉积PECVD |
|
|
产品型号 |
CY-PECVD-240T-SS |
|
|
供电电源 |
AC220V 50Hz |
|
|
射频电源 |
信号频率 |
13.56MHz |
|
功率输出范围 |
||
|
工作腔体 |
加热温度 |
RT-500℃（还可选择600℃，800℃，1000℃等） |
|
样品台尺寸 |
Φ100mm（兼容4英寸及以下样品） |
|
|
样品台转速 |
1-20rpm 可调 |
|
|
腔体材质 |
不锈钢 |
|
|
观察窗 |
Φ60mm, 带挡板 |
|
|
供气系统 |
通道数 |
3 （可根据需要选择其他通道数，其他气体种类，其他测量范围） |
|
测量单位 |
质量流量计 |
|
|
测量范围 |
A 通道: 0～200SCCM for O2 |
|
|
B通道: 0～200SCCM for N2 |
||
|
C通道: 0～200SCCM for Ar |
||
|
真空系统 |
前级泵抽速 |
1.1L/s |
|
分子泵抽速 |
60L/s |
|
|
真空测量 |
复合真空计 |
|
|
真空度 |
5.0*10-3Pa |
|
|
水冷机 |
水流速 |
10L/min |
|
冷却功率 |
50W/℃ |
|
