- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
超声波雾化立式单温区管式炉是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺。此款仪器有三个主要?？樽槌桑撼砘爸?、1200℃单温区立式管式炉和静电收集装置组成。材料制作大概分为三个步骤：前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款较为先进的合成系统，可控制器颗粒尺寸，形态，微纳米结构等，可广泛应用于纳米材料制备、电极材料包覆复合等方面
立式管式炉技术参数：
|
电源 |
单相 AC 220V, 50/60 Hz |
|
超声波发生器和喷嘴 |
*大功率: 30W 超声波频率：50KHz 适用液体粘度：≦30cps 粒径：20-25um 喷雾流速：0.01-20ml/min 可接受的悬浮粒径：≦10um 可接受的悬浮固体含量：≦30% 喷涂宽度：2-20mm 导流气压：0.05Mpa |
|
连续温度 |
*高1100℃ |
|
*大加热速率 |
≤ 20℃/min. |
|
温度精度 |
+/- 1℃ |
|
管尺寸和材料 |
包括一根 1000 毫米长的石英管 外径：100 毫米，内径。 95 毫米 包括带有氧化铝涂层的泡沫陶瓷块，它悬挂在法兰顶部，以?；ひ蛉确涠鸹档?/span> O 形圈 |
|
加热元件 |
合金电阻丝 |
|
加热区长度 |
400mm |
|
恒温区 |
200 mm |
|
温度控制器 |
30 个可编程段，用于**控制加热速率、冷却速率和停留时间。 内置 PID 自整定功能，具有过热和热电偶断线?；すδ?。 过温?；ず途ㄔ市碓诿挥蟹袢嗽钡那榭鱿陆胁僮?。 控温精度：+/-1℃ |
|
真空密封法兰 |
包括两个带真空计和阀门的不锈钢法兰 顶部出气口（真空口） 底部进气口 |
|
集粉装置 |
在底部 |
|
10E-2 Torr 机械真空泵 抽速：1.1L/s |
|
|
净重 |
大约 80 kg |
|
纳米粉体收集器 |
高压电源 |
输出电压：0-30000V，可调 |
|
输出电流：≤1mA |
||
|
管状静电收集器 |
正负极板安装在集电器内 |
|
|
连续液体进料器 |
高精度蠕动泵 |
转速范围：0.01-600rpm 流量范围：0.0008ml-2400ml/Min |
