- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
|
产品型号 |
4面精密微米级制膜器 |
|||||||||||||||
|
主要特点 |
1、采用上等不锈钢制作，比普通的304不锈钢更加耐磨耐腐蚀。 2、制备出的薄膜厚度均匀，适用于制备漆膜或厚膜。 |
|||||||||||||||
|
制膜器的精度 |
||||||||||||||||
|
规格 |
5 |
10 |
15 |
20 |
25 |
37.5 |
50 |
75 |
100 |
125 |
150 |
200 |
250 |
300 |
400 |
500 |
|
精度 |
±1 |
±1 |
±2 |
±2 |
±3 |
±3 |
±3 |
±3 |
±3 |
±4 |
±4 |
±5 |
±5 |
±6 |
±8 |
±10 |
|
制膜器的规格与参数 |
|||
|
序号 |
涂膜厚度（μm）微米 |
涂抹宽度（㎜） |
总宽度（㎜） |
|
1 |
5-10-15-20 |
80 |
100 |
|
2 |
10-15-20-25 |
|
|
|
3 |
20-40-60-80 |
|
|
|
4 |
25-50-75-100 |
|
|
|
5 |
30-60-90-120 |
|
|
|
6 |
50-75-100-150 |
|
|
|
7 |
50-100-150-200 |
|
|
|
8 |
100-150-200-250 |
|
|
|
9 |
100-200-300-400 |
|
|
|
10 |
250-500-750-1000 |
|
|
|
11 |
20-40-60-80 |
160 |
190 |
|
12 |
25-50-75-100 |
|
|
|
13 |
30-60-90-120 |
|
|
|
14 |
50-100-150-200 |
|
|
|
15 |
100-150-200-300 |
|
|
|
16 |
100-200-300-400 |
|
|
