• <legend id="kqkyq"></legend>
  • <legend id="kqkyq"><input id="kqkyq"></input></legend>
    • <tr id="kqkyq"><input id="kqkyq"></input></tr>
    • <legend id="kqkyq"></legend>
    文章详情
    所在位置: 首页> 技术文章> 其它>

    PECVD系统应用的说明

    日期：2025-05-15 00:16
    浏览次数：1268
    摘要：
     PECVD主要是对半导体材料硅的溅射。

    PECVD系统应用：

        1. 广泛应用于MEMS、先进封装、功率半导体、LED制造、RF集成电路等领域

        2. 放射方式对称工艺气体显著提高晶圆片内均匀性（WIW）

        3. 多达10路气体管路，可选on-board液体输送系统

        4. 复合频率等离子体能力调节应力

        5. 有源冷却平台应用在关键，低温[小于175°C]封装工艺

        6. 可选敏感的de-gassing衬底材料增加单/多晶圆预加热腔室

    尊敬的客户：

    　　本公司还有快速退火炉、等离子清洗机、磁控溅射镀膜仪等产品，您可以通过网页拨打本公司的服务电话了解更多产品的详细信息，至善至美的服务是我们的追求，欢迎新老客户放心选购自己心仪产品，我们将竭诚为您服务！
     

    下一篇： 旋转匀胶机的参数与产品概述
    上一篇： PECVD系统性能指标的说明

    豫公网安备 41019702002438号
    欧美性黑人极品hd变态 <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>