磁控溅射镀膜仪的原理与技术指标

日期：2025-05-23 21:58

浏览次数：875

摘要：

磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器。溅射镀膜的原理是稀薄气体在异?；怨夥诺绮牡壤胱犹逶诘绯〉淖饔孟?，对阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层。

磁控溅射镀膜仪技术指标：

1、主真空室的本底真空优于2×10－8Torr；

2、四英寸的基片范围内薄膜厚度均匀性优于±2％；

3、可以溅射磁性和非磁性金属、进行直流和射频溅射；

4、基片可以加热（800℃）、冷却（水冷）；

5、全自动控制；

6、18英寸主溅射室；

7、高真空泵抽系统；

8、超高真空磁控溅射靶；直流/射频电源；

9、4英寸样品台；

10、PhaseII-J控制系统。

尊敬的客户：

　　本公司还有快速退火炉、等离子清洗机、旋转匀胶机等产品，您可以通过网页拨打本公司的服务电话了解更多产品的详细信息，至善至美的服务是我们的追求，欢迎新老客户放心选购自己心仪产品，我们将竭诚为您服务！